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铜渣精矿化学分析方法第

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本发明涉及一种化学机械研磨方法(ChemicalMechanicalPolishing,CMP),特别是涉及一种。背景技术随着元件尺寸持续缩减,光刻曝光分辨率相对增加,伴随着曝光景深的缩减,对于晶片表面的高低起伏轮廓的容忍要求更为严苛。化学机械研磨方法是目前能提供超大规模集成电路工艺全域性平坦化 ,乐收推广提供建标网的YS/T 1046.1_2015铜渣精矿化学分析方法 第1部分:铜量的测定 碘量法 _ _ 建标网__积分免费下载相关信息,了解更多关于建标网的YS/T 1046.1_2015铜渣精矿化学分析方法 第1部分:铜量的测定 碘量法 _ _ 建标网__积分免费 ...铜渣精矿化学分析方法 第5部分:二氧化硅量的测定 氟硅酸钾滴定法标准下载,YS/T 1046.5-2015下载 本部分规定了铜渣精矿中二氧化硅含量的测定方法。 本部分适用于铜渣精矿中二氧化硅含量的测 …YST1046的本部分规定了铜渣精矿中银含量的测定方法本部分适用于铜渣精矿中银含量的测定方法1测定范围为200gt4000gt方法2测定范围为Au050gt1000gtAg500gt4000gt铜渣精矿中银含量在200gt500gt 范围内用本方法仲裁 ...银精矿化学分析方法 第15部分:铅、锌、铜、砷、锑、铋和镉含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 56 YS/T 1316.1-2019 1,2-双二苯基膦乙烷氯化钯化学分析方法 第1部分:钯含量的测定 丁 …镍精矿化学分析方法 第5部分: 铜、铅、锌、镁、镉和砷含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 本部分规定了镍精矿中铜、铅、锌、镁、镉和砷含量的测定方法。 本部分适用于镍精矿中铜、铅、锌、镁、镉和砷含量的测定 ...

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